超强超快地分析微弧
降低晶片损失，提高产量
INFICON Sion™ 射频检测器可以对等离子微弧提供实时、强大的分析，等离子微弧可能会给化学气相沉积 (CVD) 和蚀刻过程中的靶材、沉积薄膜甚至是晶片表面造成损坏。 Sion 比当今市场上任何其他设备更为小巧，它采用 INFICON FabGuard® 集成与分析系统 检测等离子弧，这是以前无法做到的。 从而可降低晶片损失，提高产量，进而增强盈利能力。
功能概览
- 非侵入式超小型检测器设计
- 高速数据收集 (20 KHz)
- 与 FabGuard 相集成的数据管理
小巧易用的钳式传感器彰显了巨大优势
Sion 是直通式电缆装配传感器，其性能不会受到任何阻碍；它也不会改变工具的射频输送系统特性。 该检测器采用创新的钳式设计，结构极其紧凑，为非侵入式检测器，可以直接连接至过程腔室的高功率射频输送系统，以高达 20 KHz 的速度收集电压和电流信息。 这包括一个高速信号转换器，直接连接至 FabGuard 数据收集与分析系统。
其他设备的性能与 Sion 射频检测器完全无法抗衡，因为大型射频检测器必须塞进的位置无法进行充分的弧检测。
应用
FDC 是适用于 CVD、蚀刻和 PVD 应用的检测解决方案。
相关技术资料
产品样本和数据表:
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Brochure - Sion RF Detector for Plasma Arc Detection
English
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 | | Non-intrusive, clamp-on Sion RF Detector delivers high-speed arc detection in CVD and Etch |
|  | | FabGuard Sensor Integration and Analysis System |
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