高精确、可重复的腔室清洗终点控制,可降低成本
Sion 射频检测器可以可靠、准确地确定腔室清洗终点,从而为您的气相沉积 (CVD) 和蚀刻过程提供更严密的控制及更高的产量。 更精确的终点意味着晶圆上残留的粒子更少,预防性维护周期之间的时间更长。
与基于光谱仪 (OES) 的控制器相比,Sion 具有诸多优势,可与 FabGuard® 集成与分析系统 结合使用,减少因蚀刻不足或蚀刻过度导致需要清洗腔室而浪费的时间和材料。
功能概览
- 轻松方便地替换基于 OES 的仪器,实现更精确的终点控制
- 消除因蚀刻不足或蚀刻过度导致的腔室清洗,降低时间和材料成本
- 降低所需干净气流级别和成本
- 勿需执行腔室窗口维护和更换,延长了工具运行时间
相关技术资料
产品样本和数据表:
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Brochure - Sion RF Detector for Endpoint Control
English
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 | | Sion RF Detector for Endpoint Control Eliminates Over-Etching for Increased Throughput |
|  | | FabGuard Sensor Integration and Analysis System |
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