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Transpector XPR3L Gas Analysis System
Ausbeutemaximierung für Solarzellen- und LCD-Prozesse durch Überwachung der Gasdrücke, Nachweis von Verunreinigungen und Lecksuche

Das Transpector XPR3L Gas Analysis System ist ein kostengünstiger und effizienter RGA für die Überwachung von Prozessgasen und grundlegenden Vakuumbedingungen. Die PVD-Prozessüberwachung mit dem XPR3L liefert Echtzeitdaten zu Prozessgasdrücken, Gasgemischen, dem Verunreinigungsgrad, unerwünschten Beimischungen und Lecks. Mithilfe dieser Informationen kann sowohl die Prozessausbeute als auch die Produktqualität maximiert werden. Durch Hintergrundsüberwachung mit dem XPR3L können vorbeugende Wartungsprogramme effizienter und effektiver gestaltet werden, indem Lecks und Verunreinigungen schnell festgestellt und diagnostiziert werden.

Features auf einen Blick
  • Bietet eine wirtschaftliche Doppelfunktionalität, Prozessüberwachung und Gewährleistung der grundlegenden Vakuumbedingungen, mit einem Betriebsbereich von UHV bis hin zu 10 m Torr (optional 20 mTorr)
  • Kostengünstiger und sparsamer Prozessmonitor, der die Implementierung in skalierbaren Produktionsdesigns ermöglicht.
  • Verbessert die Prozessausbeute, reduziert den Ausschuss und verbessert die Produktqualität durch kontinuierliche automatische Überwachung von Prozessgasdrücken, -gemischen und möglichen Verunreinigungen oder unerwünschten Beimischungen
  • Beschleunigt vorbeugende Wartungsmaßnahmen und erhöht die Produktivität durch Sicherstellen der grundlegenden Vakuumbedingungen, Lecksuche und Identifizieren von Verunreinigungen mit hoher Empfindlichkeit und niedrigen messbaren Mindestpartialdrücken
  • Bei Betrieb in einem Massenbereich von 1 bis 100 amu werden Ihre Investitionen geschützt und die Risiken reduziert, da zahlreiche unterschiedliche Materialien, Verunreinigungen und Nebenprodukte nachgewiesen werden können
  • Kompatibel mit dem FabGuard-Überwachungs- und Analysesystem für zuverlässige erweiterte Diagnosen und Prozesssteuerung

Anwendungen
  • Solar-/Photovoltaikherstellung
  • LCD-Herstellung
  • PVD-Prozessüberwachung
  • Überwachen der Drücke und Mischungsverhältnisse der Prozessgase
  • Nachweisen und Identifizieren von Verunreinigungen
  • Erkennen und Suchen von Lecks (Luft, Helium, Wasser oder Dämpfe)
  • Vorbeugende Wartungsmaßnahmen, Wiederherstellung, Problembehandlung und Überprüfen der grundlegenden Vakuumbedingungen

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ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION

Brochures and Datasheets:

   Brochure - Transpector XPR3L Gas Analysis System
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