Das Transpector® Gas Analysis System ist ein RGA, der genaue und zuverlässige Daten für Vakuumprozessüberwachung, Prozessdiagnose und Leckerkennung bei der Halbleiterherstellung bereitstellt. Im Transpector 2 werden durch die erhöhte Wasserstoffempfindlichkeit Verunreinigungen auf Sub-ppm-Ebenen sichtbar, und eine um das Vierfache schnellere Abtastung gegenüber Signalen mit niedrigem Pegel sowie ein erweiterter dynamischen Bereich sorgen für zuverlässigere Daten bei niedrigeren feststellbaren Partialdrücken.
Features auf einen Blick
- 100-, 200- und 300-amu-Systeme mit Faraday-Becher oder einer Kombination aus Elektronenvervielfacher und Faraday-Becher
- Verbesserte Wasserstofferkennung
- Erhöhter Scheitelwert und Positionsstabilität
- Eine bis zu 10-fache Verbesserung des Signal-Rausch-Abstands im Vergleich zum ursprünglichen Transpector
- Schnellere Abtastung gegenüber Signalen mit niedrigem Pegel
- Elektronischer dynamischer Bereich über neun Dekaden
- Softwareoptionen für Systeme mit einer und mehreren Kammern
- Partialdruckmessung von 1 X 10 -4 Torr bis 5 X 10 -15 Torr
ASSOCIATED TECHNICAL INFORMATION
Brochures and Datasheets:
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Brochure - Transpector 2 Gas Analysis System
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Technical Information:
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Technical Note - Benefits of RGA Degassing
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Technical Note - Calculating Partial Pressures
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Technical Note - Calculating Sensitivity for RGA Partial Pressures
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Technical Note - Choosing the Appropriate RGA
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Technical Note - Heating Jackets Can Improve RGA Performance
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Technical Note - Interpretation Guide - General RGA Spectrum
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Technical Note - New Digital Input/Output Board for Transpector Gas Analysis System Using TWare 32
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Technical Note - Partial Pressures vs. Total Pressure for an Open Ion Source RGA
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Technical Note - Residual Gas Analyzers for Contamination Checking
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Technical Note - Residual Gas Analyzers for Leak Detection
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Technical Note - The Advantages of an RGA with Analog Outputs
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Technical Note - The Practical use of Residual Gas Analysis in a Semiconductor Thermal Processing Module
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Technical Note - Transpector 2 Improvements Lead to Better Process Monitoring
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